ULVAC 工艺监控仪 RGM2-302
特点 可以在反应过程中长时间进行稳定的测量 采用具有磁场的Claude离子源 软电离可防止在高灵敏度电离室因热反应而产生的分解和吸附,同时气体离解较少 紧凑型流量控制阀 处理室到离子源的距离很短,可以快速响应分辨率 可以测量宽范围的压力10-6 to 13kPa(口径可选) 无需电脑也可以测量 One Click机能(对每个人来说都很容易,不需要复杂的操作) 连接传感器单元时,*大可以进行120℃的高温烘烤 离子源,二次电子倍增管的预防性维护分析管加载了可追溯性(**申请中) 可进行氦气检漏,漏气测试 标准搭载软件(Windows 8/10/11) 用途 CVD/ALD/蚀刻设备 监测工艺中的反应气体 蚀刻和清洁工艺的末端监测 残留气体测量 检漏 规格
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