光发射光谱刻蚀终点监测仪

Name: 光发射光谱刻蚀终点监测仪
Brand: HORIBA 堀场
SKU: EV-140C-UV

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产品名称: 光发射光谱刻蚀终点监测仪

产品型号: EV-140C-UV

产品厂商: 岩濑商事

产品品牌: HORIBA 堀场

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光发射光谱刻蚀终点监测仪 的详细介绍

HORIBA堀场产品特点：

HORIBA堀场拥有半导体全制程工艺控制与检测全系列产品，涵盖MFC流体控制、湿法*液监测、干法工艺监测、光罩洁净设备、晶圆材料表征、厂务环境监测六大核心品类，是先进晶圆产线主流标配方案。产品核心特点为高精度、快响应、高稳定性、强耐腐蚀性，适配腐蚀特种气体与高温酸碱*液，支持半导体工业通讯与产线自动化闭环控制，可有效降低工艺偏差、减少颗粒缺陷、提升生产良率。堀场设备可覆盖刻蚀、ALD/CVD薄膜沉积、湿法清洗、光刻、CMP、外延等全部关键工序，同时满足量产物控与高精材料研发需求。

应用行业：

产品广泛应用于逻辑、存储、MCU、先进封装等集成电路领域，适配SiC/GaN功率半导体、Mini/Micro LED光电子器件，同时服务光伏、显示面板行业及半导体实验室科研检测场景。

型号	光学配置	光谱范围	光谱分辨率	CCD 像素	腔体通道	配套控制器	整机构成
EV-140C-STD	140mm 焦距平场凹面光栅	200~800nm	200-500nm＜2.0nm；500-700nm＜2.5nm	2048×64	1 通道	嵌入式工控主机	传感器 + 控制器 + Sigma-P 软件
EV-140C-UV	140mm 焦距紫外增强光栅	185~800nm	200-500nm＜1.8nm；500-700nm＜2.5nm	2048×64	1 通道	嵌入式工控主机	传感器 + 控制器 + Sigma-P 紫外拓展包
EV-140C-HR	140mm 高分辨平场光栅	200~800nm	全波段＜1.2nm	2048×64	1 通道	嵌入式工控主机	传感器 + 控制器 + 高分辨分析模块
EV-140C-BASIC	标准基础光栅	220~780nm	200-500nm＜2.3nm；500-700nm＜2.8nm	2048×64	1 通道	基础款工控主机	传感器 + 标准版 Sigma-P 软件

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