在半导体湿法工业生产中,刻蚀、清洗、电镀等核心工序的药液浓度稳定性,直接决定晶圆良率、生产成本及生产效率,是工业制程管控的核心环节。KURABO 仓纺 ChemicAlyzer Pro-2+(KIS-P)作为经典款 Pro-2(KIS)的重磅升级版浓度计,在精度、响应速度、稳定性与智能化适配性上多方位提升,以更强性能满足先进制程在线监测需求,为半导体湿法工业产线提供更精准、更可靠的浓度管控支撑。
一、品牌底蕴:30 余年技术深耕,铸就精密标杆
KURABO 仓纺创立于 1888 年,总部位于日本大阪,是全球知名多元化精密制造企业。自 1990 年进军红外液体浓度检测领域,聚焦半导体等精密制造场景,依托 30 余年光学技术积淀与严苛品控,推出多系列设备,全球累计销量超 3000 台,获行业头部企业认可。公司通过 ISO9001 与 ISO14001 认证,ChemicAlyzer 系列融合自研近红外分光技术、智能算法与耐腐蚀设计,代表其在该领域的先进水平。本次推出 Pro-2+(KIS-P)升级版机型,进一步强化产品竞争力,为先进制程提供更稳定可靠的支撑。
二、产品核心参数:升级版小体积高精度,性能多方位跃升
ChemicAlyzer Pro-2+(KIS-P)是 Pro-2(KIS)升级版一体型在线近红外液体浓度计,专为半导体 20–30℃洁净室优化设计,采用近红外透射分光原理,8 波长光学滤镜分光,可精准测量 1–2 种药液成分,安装调试便捷。核心规格如下:
产品类型:近红外在线浓度计(Pro-2 升级版,适配半导体先进湿法工序)
测量原理:近红外透射法,搭载专用光学滤镜,支持多波长同步检测
测量对象:半导体湿法工序常用药液(H₂O₂、HCl、H₂SO₄、TMAH、BOE 等)
测量精度:±0.01%(TMAH 等关键药液),相比标准版精度大幅提升,支持微量浓度波动捕捉
响应时间:≤15s,响应速度更快,实时反馈浓度数据,无延迟
接液材质:石英(常规药液)、蓝宝石(强腐蚀药液)
安装方式:壁挂式 / 机架式,适配洁净车间安装
电源要求:AC 100-220V,50/60Hz,功率 100W
环境适配:温度 20-30℃,无冷凝,适配洁净车间等级
信号输出:4-20mA 模拟信号、RS-485 数字信号,支持 PLC 与 MES 联动
尺寸(W×D×H):270×340×257mm
重量:约 16kg
三、核心技术优势:升级版四大亮点领跑同级设备
升级版一体化紧凑设计,安装维护更便捷:在 Pro-2 基础上优化集成结构,测量与数据处理单元高度整合,内部校正模块多方位升级。自带升级版纯水校正自动管路切换阀,支持一键操作与 DIW 自动零点校正,简化按键设计,无需专业培训即可上手,低改造导入,可快速替换标准版 Pro-2 及其他品牌设备。
升级版近红外超高精度检测,精准捕捉微小波动:搭载仓纺新一代近红外透射分光技术,在标准版基础上进一步提升检测精度,专属波长搭配独立校准曲线,机间误差更小,可精准捕捉微量浓度变化。区别于电化学检测,不受浊度、气泡、温度波动影响,抗干扰强,响应更快,为先进工艺闭环控制提供更强支撑。
升级版高可靠免维护,长期稳定运行:核心部件采用工业级高耐久升级设计,寿命支持 10 年以上,仅需定期更换 lamps,维护成本更低。接液部件采用升级耐腐蚀材质,防漏液安稳设计,适配强腐蚀药液,长期稳定性更优异,适配 24 小时连续生产。
升级版多工况适配,通用性更强:可测量半导体全湿法工序常用药液,提供石英池、蓝宝石池两种选择,适配 HF 等特殊药液。在标准版基础上新增数字信号输出,可无缝对接 PLC 与 MES 系统,实现数据实时传输与远程监控,智能化适配性多方位优于标准版。
四、应用场景:升级版覆盖半导体湿法制程全场景
Pro-2+(KIS-P)升级版广泛应用于半导体晶圆清洗、刻蚀、电镀、抗蚀剂剥离、药液再生等核心湿法工序,同时适配液晶面板、精密电子、电池材料等领域。清洗工序监测 SC-1、SC-2 等药液,提升晶圆洁净度;刻蚀工序控制 BOE、HF 等浓度,保障刻蚀均匀性;剥离工序监测 TMAH 浓度,避免残留或过度剥离;药液再生环节实现精准配比与循环利用,降低成本、减少废液排放。
五、总结
KURABO 仓纺 ChemicAlyzer Pro-2+(KIS-P)作为 Pro-2(KIS)正式升级版机型,集升级结构、超高精度、高稳定、强智能化适配于一体,以多方位跃升的性能满足先进半导体制程更严苛的浓度监测要求。作为日系匠心升级产品,其成熟技术与便捷维护设计,可有效助力企业提升晶圆良率、降低生产成本、增强整体竞争力,是半导体在线浓度监测的优选解决方案。
(图1)Pro-2+(KIS-P)产品展示
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