KURABO仓纺 ChemicAlyzerAce-3（KIS-A）高*能浓度计，精密监测再升级，洁净制程新标杆


在半导体制造的超净车间中，湿法刻蚀、清洗等核心工序的药液浓度，是决定晶圆良率、控制生产成本的关键命脉。KURABO 仓纺 ChemicAlyzer Ace-3（KIS-A）系列高*能在线近红外浓度计，凭借其专为半导体洁净室优化的一体化设计、高稳定*与精准检测能力，为先进制程的药液浓度管控提供了可靠支撑，成为精密制造环节的重要保障。


一、品牌底蕴：三十余年深耕，铸就精密检测标杆

KURABO 仓纺创立于 1888 年，总部位于日本大阪，是全球知名的多元化精密制造企业。自 1990 年进军红外液体浓度检测领域以来，品牌便聚焦半导体等精密制造场景，依托三十余年的光学技术积淀与严苛的品控体系，推出了多系列成熟设备，全球累计销量超 3000 台，获得了行业头部企业的广泛认可。公司通过 ISO9001 与 ISO14001 认证，ChemicAlyzer 系列融合了自研近红外分光技术、智能算法与耐腐蚀设计，代表了其在该领域的先进水平。本次推出的 Ace-3（KIS-A）高*能机型，进一步强化了设备的稳定*与适配*，为先进制程提供了更安稳可靠的支撑。

二、产品核心参数：一体化紧凑设计，洁净室场景专属优化

ChemicAlyzer Ace-3（KIS-A）是一款专为半导体洁净室打造的一体型在线近红外液体浓度计，采用成熟的近红外透射分光原理，搭载专用光学滤镜，可精准测量多种药液成分，安装调试便捷高效。核心规格如下：
  • 产品类型：近红外在线浓度计（高*能一体型，适配半导体洁净车间）
  • 测量原理：近红外透射法，搭载专用光学滤镜，支持多波长同步检测
  • 装置尺寸：W250 × D330 × H282mm
  • 装置重量：约 15kg
  • 电源规格：DC24V 100W
  • 设置环境：场所为半导体制造工厂洁净室或同等场所，周围温度 20~30℃（无冷凝）
  • 安装方式：机架式 / 壁挂式，适配洁净车间有限空间布局
  • 信号输出：支持标准工业信号输出，可无缝对接 PLC 与 MES 系统，实现数据实时传输与远程监控

三、核心技术优势：三大亮点，适配高洁净度、高稳定*需求

1. 一体化紧凑设计，洁净室安装维护更便捷

Ace-3（KIS-A）采用高度集成的一体化结构，测量与数据处理单元整合度高，机身尺寸小巧，重量仅约 15kg，可轻松适配洁净车间机架式或壁挂式安装需求，不占用宝贵的生产空间。设备操作界面简洁，无需专业培训即可上手，低改造导入，可快速适配现有产线布局，降低升级成本。

2. 近红外稳定检测，不受工况波动干扰

设备搭载仓纺成熟的近红外透射分光技术，可精准捕捉药液浓度的微小变化。区别于电化学检测方式，其不受浊度、气泡、温度波动的影响，抗干扰能力强，能在洁净室稳定的环境条件下，为生产过程提供持续可靠的浓度数据，为先进工艺的闭环控制提供有力支撑。

3. 高可靠免维护设计，适配 24 小时连续生产

核心部件采用工业级高耐久设计，接液部件选用耐腐蚀材质，防漏液安稳设计，适配半导体湿法工序中多种腐蚀*药液。设备支持长期稳定运行，维护成本低，可满足洁净车间 24 小时连续生产的严苛要求，减少停机维护带来的生产损失。

四、应用场景：覆盖半导体湿法制程全场景

Ace-3（KIS-A）系列广泛应用于半导体晶圆清洗、刻蚀、电镀、抗蚀剂剥离、药液再生等核心湿法工序，同时适配液晶面板、精密电子、电池材料等领域的洁净生产场景。在清洗工序中，可稳定监测 SC-1、SC-2 等药液浓度，提升晶圆洁净度；在刻蚀工序中，精准控制 BOE、HF 等药液浓度，保障刻蚀均匀*；在药液再生环节，实现精准配比与循环利用，降低生产成本、减少废液排放。

五、总结

KURABO 仓纺 ChemicAlyzer Ace-3（KIS-A）系列高*能浓度计，以一体化紧凑设计、高稳定*检测能力与洁净室专属适配*，为半导体湿法制程提供了可靠的药液浓度监测解决方案。作为日系匠心打造的成熟产品，其便捷的安装维护、稳定的运行表现，可有效助力企业提升晶圆良率、降低生产成本、增强整体竞争力，是半导体洁净制程在线浓度监测的优选设备。


（图1）Ace-3（KIS-A）产品展示

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