在半导体湿法工业生产中，刻蚀、清洗、电镀等核心工序的药液浓度稳定性，直接决定晶圆良率、生产成本及生产效率，是工业制程管控的核心环节。KURABO仓纺 ChemicAlyzer Pro-2（KIS）浓度计，依托成熟近红外检测技术与严苛品控标准，精准适配工业级在线监测需求，成为半导体湿法工业产线的核心检测设备，为各类湿法工艺提供可靠的浓度管控支撑。
一、品牌底蕴：30余年技术深耕，铸就精密标杆
KURABO仓纺创立于1888年，总部位于日本大阪，是全球知名多元化精密制造企业。自1990年进军红外液体浓度检测领域，聚焦半导体等精密制造场景，依托30余年光学技术积淀与严苛品控，推出多系列设备，全球累计销量超3000台，获行业头部企业认可。公司通过ISO9001与ISO14001认证，ChemicAlyzer系列融合自研近红外分光技术、智能算法与耐腐蚀设计，代表其在该领域的先进水平，为先进制程提供可靠支撑。
二、产品核心参数：小体积高精度，性能可控
ChemicAlyzer Pro-2（KIS）是一体型在线近红外液体浓度计，专为半导体20–30℃洁净室设计，采用近红外透射分光原理，8波长光学滤镜分光，可精准测量1–2种药液成分，安装调试便捷。核心规格如下：
产品类型：近红外在线浓度计（适配半导体湿法工序）
测量原理：近红外透射法，搭载专用光学滤镜，支持多波长同步检测
测量对象：半导体湿法工序常用药液（H₂O₂、HCl、H₂SO₄、TMAH、BOE等）
测量精度：±0.1%（TMAH等关键药液），支持微量浓度波动捕捉
响应时间：≤20s，实时反馈浓度数据，无延迟
接液材质：石英（常规药液）、蓝宝石（强腐蚀药液）
安装方式：壁挂式/机架式，适配洁净车间安装
电源要求：AC 220V ±10%，50/60Hz，功率≤30W
环境适配：温度10-30℃，湿度≤80%RH，无冷凝，适配洁净车间等级
信号输出：4-20mA 模拟信号，支持PLC联动与数据上传
三、核心技术优势：四大亮点领跑同级设备
1. 一体化紧凑设计，安装维护便捷：测量与数据处理单元集成，体积较传统分体式缩小40%，可灵活嵌入狭窄产线。自带纯水校正自动管路切换阀，支持一键操作与DIW自动零点校正，简化按键设计，无需专业培训即可上手，低改造导入，可快速替代其他品牌设备。
2. 近红外高精度检测，捕捉微小波动：搭载自研近红外透射分光技术，专属波长搭配独立校准曲线，机间误差小，可精准捕捉微量浓度变化。区别于电化学检测，不受浊度、气泡、温度波动影响，抗干扰强，响应快，为工艺闭环控制提供支撑。
3. 高可靠免维护，长期稳定运行：核心部件采用工业级高耐久设计，寿命支持10年以上，仅需定期更换lamps，维护成本低。接液部件采用耐腐蚀材质，防漏液设计，适配强腐蚀药液，长期稳定性优异，适配24小时连续生产。
4. 多工况适配，通用性强：可测量半导体全湿法工序常用药液，提供石英池、蓝宝石池两种选择，适配HF等特殊药液。支持标准信号输出，可无缝对接PLC与MES系统，实现数据实时传输与远程监控，适配性优于同级。
四、应用场景：半导体湿法制程全覆盖
Pro-2（KIS）广泛应用于半导体晶圆清洗、刻蚀、电镀、抗蚀剂剥离、药液再生等核心湿法工序，同时适配液晶面板、精密电子、电池材料等领域。清洗工序监测SC-1、SC-2等药液，提升晶圆洁净度；刻蚀工序控制BOE、HF等浓度，保障刻蚀均匀性；剥离工序监测TMAH浓度，避免残留或过度剥离；药液再生环节实现精准配比与循环利用，降低成本、减少废液排放。
五、总结
KURABO仓纺ChemicAlyzer Pro-2（KIS）集紧凑设计、高精度、高稳定、强适配于一体，以小巧体积实现严苛的浓度监测，匹配半导体中小型产线需求。作为日系匠心产品，其成熟技术与便捷设计，助力企业提升晶圆良率、降低成本、增强竞争力，是半导体中小型在线浓度计的优选解决方案。
（图1）ChemicAlyzer Pro-2（KIS）产品展示
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