微流量压强不敏感质量流量模块

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产品名称: 微流量压强不敏感质量流量模块
产品型号: D717uF-M1
产品厂商: 岩濑商事
产品品牌: HORIBA 堀场
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微流量压强不敏感质量流量模块  的详细介绍

HORIBA堀场 产品特点:

HORIBA堀场拥有半导体全制程工艺控制与检测全系列产品,涵盖MFC流体控制、湿法药液监测、干法工艺监测、光罩洁净设备、晶圆材料表征、厂务环境监测六大核心品类,是先进晶圆产线主流标配方案。产品核心特点为高精度、快响应、高稳定性、强耐腐蚀性,适配腐蚀特种气体与高温酸碱药液,支持半导体工业通讯与产线自动化闭环控制,可有效降低工艺偏差、减少颗粒缺陷、提升生产良率。堀场设备可覆盖刻蚀、ALD/CVD薄膜沉积、湿法清洗、光刻、CMP、外延等全部关键工序,同时满足量产物控与高精材料研发需求。



应用行业:


产品广泛应用于逻辑、存储、MCU、先进封装等集成电路领域,适配SiC/GaN功率半导体、Mini/Micro LED光电子器件,同时服务光伏、显示面板行业及半导体实验室科研检测场景。


完整型号 满量程 进气压力区间 压差范围 下游压力上限 适配气体类型 润湿材质 流量精度 (25℃) 重复精度 阀体漏率 通讯接口 供电 净重 适用工艺场景
D717uF-L1 5SCCM 110~350kPa(A) ≥13.3kPa ≤53.3kPa O₂、氮气、氩气等惰性 / 弱氧化气体 SUS316L、PFA ±1%S.P.(10~100%FS);±0.1%FS(0.5~10%FS) ±0.25%S.P <0.015SCCM(N₂) RJ45 EtherCAT 24VDC±4V,瞬时 9.6W 1.0kg 常规薄膜沉积、低压微量掺杂
D717uF-M1 5SCCM 240~412kPa(A) ≥13.3kPa ≤53.3kPa 氧气、常规工艺氧化气体 SUS316L、Ni 合金、PFA ±1%S.P.(10~100%FS);±0.1%FS(0.5~10%FS) ±0.25%S.P <0.015SCCM(N₂) RJ45 EtherCAT 24VDC±4V,瞬时 9.6W 1.0kg 标准刻蚀、ALD 微量氧化气源供给
D717uF-M2 5SCCM 240~412kPa(A) ≥13.3kPa ≤53.3kPa Cl₂、HF 等卤素强腐蚀特种气体 高镍耐蚀合金、PFA ±1%S.P.(10~100%FS);±0.1%FS(0.5~10%FS) ±0.025%FS(0.5~10%FS) <0.015SCCM(N₂) RJ45 EtherCAT 24VDC±4V,瞬时 9.6W 1.0kg 干法腐蚀刻蚀、化合物半导体外延微量气源
D717uF-H1 5SCCM 350~750kPa(A) ≥240kPa ≤53.3kPa 高压微量掺杂、高纯特种气源 SUS316L、PFA ±1%S.P.(20~100%FS);±0.2%FS(1~20%FS) ±0.05%FS(1~20%FS) <0.015SCCM(N₂) RJ45 EtherCAT 24VDC±4V,瞬时 9.6W 1.0kg 高压扩散炉、功率半导体 SiC/GaN 外延

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