在半导体制造的精密湿法制程中，药液浓度的高精度、高稳定性监测，是保障芯片良率、实现成本管控的核心环节。KURABO 仓纺 ChemicAlyzer Ⅱ 在线近红外浓度计，凭借专为洁净室环境优化的一体化设计、强大的检测性能与高可靠性，为半导体等高规格制造领域提供了专业级的药液浓度监测方案。
一、品牌底蕴：三十余年技术积淀，铸就精密检测标杆
KURABO 仓纺创立于 1888 年，总部位于日本大阪，是全球知名的多元化精密制造企业。自 1990 年进军红外液体浓度检测领域以来，品牌便聚焦半导体等精密制造场景，依托三十余年的光学技术积淀与严苛的品控体系，推出了多系列成熟设备，全球累计销量超 3000 台，获得了行业头部企业的广泛认可。公司通过 ISO9001 与 ISO14001 认证，ChemicAlyzer 系列融合了自研近红外分光技术、智能算法与耐腐蚀设计，代表了其在该领域的先进水平。本次推出的 ChemicAlyzer Ⅱ，专为半导体洁净室等高阶场景打造，以全集成化的配置满足严苛的制程管控需求。
二、产品核心参数：一体化集成设计，适配洁净室部署
ChemicAlyzer Ⅱ（型号：KCI-02 [- 特記事項]）是一款大型一体化在线近红外液体浓度计，专为半导体制造工厂洁净室或同等场所设计，采用成熟的近红外透射分光原理，搭载 PC、分光部与采样部一体化配置，为关键制程提供稳定可靠的浓度监测能力。核心规格如下：
装置尺寸：W500 × D500 × H1086mm（不含配管突出部与天面设备）
装置重量：约 80kg
电源规格：AC100V 500W
设置环境：场所为半导体制造工厂洁净室或同等场所，周围温度 20~30℃（无冷凝）
安装方式：立式落地安装，适配洁净室标准布局
装置构成：PC・分光部・采样部一体化集成
测量原理：近红外透射法，搭载专用光学滤镜，支持多波长同步检测
接液材质：耐腐蚀材质，适配半导体制程多种药液
三、核心技术优势：三大亮点，兼顾集成、性能与稳定
全集成化配置，一站式满足检测需求
ChemicAlyzer Ⅱ 采用 PC、分光部与采样部一体化设计，无需额外配置外部设备，开箱即可接入产线部署，大幅降低现场集成与调试成本。立式柜体结构专为洁净室优化，防尘防污染，适配半导体工厂的严苛环境要求。
高规格硬件配置，保障长期安稳运行
设备采用 500W 标准供电设计，搭载仓纺成熟的近红外分光技术，不受浊度、气泡、温度波动干扰，在 20~30℃无冷凝的洁净室环境中可实现 24 小时连续稳定运行，接液部件采用耐腐蚀材质，适配多种半导体制程药液，满足高精密制程的连续监测需求。
洁净室专用设计，适配高规格制造场景
专为半导体制造工厂洁净室打造的设备，从结构设计到材质选用均满足洁净环境标准，可直接部署在晶圆制造、清洗、蚀刻等关键工序中，为芯片生产的每一步提供精准、稳定的药液浓度数据支撑，助力企业实现制程管控的精细化与高效化。
四、应用场景：覆盖半导体高规格湿法制程全环节
ChemicAlyzer Ⅱ 广泛应用于半导体制造工厂的洁净室环境，包括晶圆清洗、蚀刻、光刻配套药液监测等关键工序，同时适配精密电子、平板显示等领域的高要求药液浓度管控。在半导体产线中，可精准控制各类清洗液、蚀刻液、显影液的浓度，保障产品良率；在药液再生与配比环节，实现高精度的浓度监测与闭环控制，助力企业降低生产损耗、提升生产效率。
五、总结
KURABO 仓纺 ChemicAlyzer Ⅱ 在线浓度计，以一体化集成设计、高规格硬件配置与洁净室专用优化，为半导体等高规格制造领域提供了专业级的药液浓度监测解决方案。作为日系匠心打造的成熟产品，其强大的检测性能与长期安稳的运行表现，可有效助力企业优化制程管控、提升产品良率、降低生产成本，是半导体湿法制程在线浓度监测的理想选择。
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