大阪真空 Osaka Vacuum 产品特点：
株式会社大阪真空機器製作所专注真空设备研发七十余年，核心优势为自研复合转子涡轮分子泵技术，依托复合叶片结构，拓宽有效抽气区间，对各类工艺气体适配性更强。产品兼顾低振动、低噪音、结构紧凑的特性，拥有滚珠轴承与磁悬浮多种机型，可提供耐腐蚀特殊规格，满足洁净制程需求。产品线覆盖涡轮分子泵、干式泵、油封泵及成套真空机组，实现低真空至超高真空全区间排气方案。
应用行业：
产品广泛应用于众多**制造领域：半导体设备、光学镀膜、MEMS 传感器加工；理化分析仪器、质谱检测设备、实验室科研装置；航天真空模拟测试、医疗加速器、真空冻干设备；同时适配汽车零部件镀膜、工业真空热处理等场景，大量配套日系精密工艺设备，可为自动化设备厂商提供标准化及定制化真空排气解决方案。
型号 产品名称 泵类型 氮气抽速 (L/s) 吸气口法兰 转子结构 支撑方式 驱动形式 通讯配置 核心特性 适用工况 TGkine2200MI-B 反应生成物对应磁悬浮涡轮分子泵 控制器一体型 2200 ISO-B250/VG250 SGP 复合转子 磁悬浮轴承 内置一体化驱动 支持总线扩展 绝热自加热结构，抑制生成物堆积 半导体刻蚀、易析出反应物工艺 TGkine3300MI-B 反应生成物对应磁悬浮涡轮分子泵 控制器一体型 3300 ISO-B320/VG300 SGP 复合转子 磁悬浮轴承 内置一体化驱动 支持总线扩展 绝热自加热结构，抑制生成物堆积 半导体刻蚀、易析出反应物工艺 TGkine3400MI-B 反应生成物对应磁悬浮涡轮分子泵 控制器一体型 3400 VG350 SGP 复合转子 磁悬浮轴承 内置一体化驱动 支持总线扩展 绝热自加热结构，抑制生成物堆积 半导体刻蚀、易析出反应物工艺 TGkine3800MI-B 反应生成物对应磁悬浮涡轮分子泵 控制器一体型 3600 ISO-B320/VG300 SGP 复合转子 磁悬浮轴承 内置一体化驱动 支持总线扩展 绝热自加热结构，抑制生成物堆积 半导体刻蚀、易析出反应物工艺 TGkine4200MI-B 反应生成物对应磁悬浮涡轮分子泵 控制器一体型 4200 VG350 SGP 复合转子 磁悬浮轴承 内置一体化驱动 支持总线扩展 绝热自加热结构，抑制生成物堆积 半导体刻蚀、易析出反应物工艺
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