CHEMICAL HEATER
半导体制造工艺化学加热器CHE-36-3-S
无金属离子溶出污染的在线型电阻加热器方式药液加热装置
KELK化学加热器,作为RCS清洗和湿蚀刻使用的各种药水的高温加热用,短时间**地温度控制电阻加热器的直排加热装置。因为接液部分只使用氟树脂和高纯度玻璃状碳,所以没有杂质污染危险,可以应对酸性液体、碱性液体以及有机溶剂。
特征:
1. 加热部的传热接液部件使用高纯度玻璃状碳素,不用担心被溶出的金属离子污染,无需表面保护膜,不会因剥离而降低能力。另外,由于独有的结构,不使用橡胶O型圈等,因此适用药水、碱性液体及有机溶剂。
2. 装置内置有检测药液泄漏的漏液传感器和检测异常温度的温度开关,可以放心使用。
用途:
1. 半导体制造湿法工艺中使用的药水温度管理
聚合物清楚液
RCA清洗液
蚀刻液
光刻工程显影液
2. 镀层液和各种表面处理液
【适用液体】
酸性液体(氢氟酸、硝酸等)
碱性液体(NaOH 、KOH等)
有机药水
(注1) 有机药水请在订购前咨询
(注2) 含有臭氧的药水不能使用
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