CHEMICAL CIRCULATOR
半导体制造工艺 化学循环器NES-333-7
通过无金属离子溶出污染的在线型冷却加热器，实现湿法工艺中不可缺少的直接循环式药液恒温装置
KELK化学循环器是用于RCA清洗或湿法蚀刻的药液的温度高精度控制，在半导体制造的湿法工艺中不可缺少，为没有的东西得到了广泛的爱用。近年来使用药液的多样化、高兆
为了满足比特化带来的清洁度提高的要求，我们进行了进一步的更新。
（注）高温药液用时，推荐使用CS加热器。
特征：
1.冷却加热部传热接液部件使用高纯度的玻璃状碳，溶出金属离子
不用担心会造成污染，也不需要表面保护膜，所以也不会因剥离而能力下降。
2.由于橡胶O形圈是不直接接触液体密封结构，所以酸性液、碱性液等各药液
的贴纸材质的选定是不需要的。
3.电子冷热方式，适用于室温附近的温度控制且高精度。
4.本装置符合国际保护标准IP31。
5.装置包括检测药液或冷却水泄漏的漏液传感器、检测异常温度的温度
因为内置了开关，所以可以放心使用。
■用途
1.用于半导体制造湿法
药液的温度管理
●RCA清洗液
●蚀刻液
●光刻工序的显影液
2.其他领域的各种药液的温度管理
●电镀液、各种表面处理液、其他
（注）不能使用含有臭氧的药液。
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