ULVAC 简易型红外线灯加热设备 SSA-E45
特点 石英腔室可以选择气流型或真空型(标准是气流型) 可选,可以使用气流型和真空型 用途 化合物半导体的合金化 Si、化合物半导体のRTA 陶瓷基板上的层压材料的烧制炉 用于玻璃和陶瓷基板的退火炉 规格 型号 SSA-E45 SSA-E410 SSA-P610C 加热方式 聚光圆柱加热 平行光圆柱加热 温度范围 RT ~ 1400℃ RT ~ 1200℃ 加热区 Φ15mm×L 50mm Φ15mm×L 100mm Φ50mm×L 100mm 浸泡区 Φ10mm×L 40mm Φ10mm×L 80mm Φ40mm×L 80mm 加热腔 石英腔 Φ30(用于气体流动) 石英室 Φ98(用于气体流动) 样品支架 船形石英支架 用于 2 英寸晶片的石英支架 热电偶 JIS R-type 温度控制器 TPC5000-32-1 TPC5000-62-1 ※ 加热温度根据被加热样品的红外反射率、吸收率、热容量和材料而变化。
※ 加热温度根据被加热样品的红外反射率、吸收率、热容量和材料而变化。
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