ULVAC 桌上型灯加热设备 MILA-5000-P-N
特点 50℃/s高速加热 可以选择真空,气体,气流,大气和任何环境 **的温度控制 桌面型和紧凑型设计 用途 强电解质薄膜的晶体退火 离子注入后的扩散退火,氧化膜形成退火 Si、化合物晶圆烧结和合金化处理 玻璃基板的热退火 热循环,热冲击,热疲劳试验 升温脱离试验,催化效果试验 规格
*真空泵系统为可选项。 *加热温度根据被加热样品的红外反射率、吸收率、热容量和材料而变化。
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